[发明专利]光学分析装置有效
| 申请号： | 201110432455.7 | 申请日： | 2011-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN102608029A | 公开（公告）日： | 2012-07-25 |
| 发明（设计）人： | 横山一成;有本公彦 | 申请（专利权）人： | 株式会社堀场制作所 |
| 主分类号： | G01N21/01 | 分类号： | G01N21/01;G01N21/31 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 李雪春;武玉琴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光学分析装置，通过降低腐蚀性气体对焦点位置修正用的基准修正构件的影响，在降低光学分析装置的测量误差的同时，解决伴随更换基准修正构件所产生的各种问题。本发明的光学分析装置包括基准修正构件(6)，该基准修正构件(6)能在位于聚光光学系统(3)和检测光学系统(4)之间的光路(L)上的基准位置(R)、以及从该基准位置(R)退避开的退避位置(S)之间移动，使在基准位置(R)上通过的光的焦点位置与通过位于测量位置(P)上的测量单元(5)的光的焦点位置基本相同，基准修正构件(6)的在基准位置(R)上与光路(L)相交的外表面部分(6A)，由对腐蚀性气体具有耐腐蚀性的材料构成。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 分析 装置 | ||
【主权项】：
一种光学分析装置，其特征在于包括：聚光光学系统，对光源发出的光进行聚光；检测光学系统，设置在由所述聚光光学系统聚光后的光的光路上，对所述光进行检测；测量单元，能在位于所述聚光光学系统和所述检测光学系统之间的光路上的测量位置、以及从所述测量位置退避开的退避位置之间移动；基准修正构件，能在位于所述聚光光学系统和所述检测光学系统之间的光路上的基准位置、以及从所述基准位置退避开的退避位置之间移动，并且使在所述基准位置上通过的光的焦点位置与通过位于所述测量位置上的测量单元的光的焦点位置基本相同；以及移动机构，用于移动所述测量单元和所述基准修正构件，选择性地使所述测量单元移动到所述测量位置或者使所述基准修正构件移动到所述基准位置，至少所述基准修正构件的在所述基准位置上与光路相交的外表面部分，由对腐蚀性气体具有耐腐蚀性的耐腐蚀性材料形成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社堀场制作所，未经株式会社堀场制作所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110432455.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
