[发明专利]光学邻近修正方法

摘要

一种光学邻近修正方法，基于光学邻近修正工艺，通过在对金属线条进行OPC处理时，增加判断和修改缩进量的步骤，使得金属线条中的凹凸结构在进行OPC修正时能够达到最佳的缩进量，从而减少实际硅片上得到的光刻图形与掩膜版图形之间存在变形和偏差，以提高产品的电路性能和生产成品率。

主权项

一种光学邻近修正方法，包括：提供一有多条金属线条组成的金属层图形，该金属层图形对应于包括凹凸结构的金属线条；将所述金属层图形上对应于所述金属线条的尺寸进行缩进处理，其中在对应于所述凹凸结构处缩进第一缩进量，非对应于所述凹凸结构处缩进第二缩进量；对所述金属层图形进行仿真光学邻近修正，得到仿真的修正图形；判断所述仿真的修正图形中金属线条的仿真尺寸与实际尺寸之间的差别；根据所述差别修改第一缩进量和/或第二缩进量的值；以调整至所述差别为零时的第一缩进量、第二缩进量对该金属层图形进行缩进。