[发明专利]等离子显示屏的介质保护膜及其制作方法和含有其的等离子显示屏无效

专利信息
申请号: 201110456495.5 申请日: 2011-12-31
公开(公告)号: CN102509680A 公开(公告)日: 2012-06-20
发明(设计)人: 邢芳丽;罗向辉 申请(专利权)人: 四川虹欧显示器件有限公司
主分类号: H01J9/00 分类号: H01J9/00;H01J11/40;H01J11/10
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 吴贵明;余刚
地址: 621000 四川省绵阳市*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供了一种等离子显示屏的介质保护膜及其制作方法和含有其的等离子显示屏。本发明提供的制作方法包括以下步骤:1)在介质层上制备介质保护层;2)在介质保护层上形成晶粒层,介质保护层和晶粒层形成介质保护膜。根据本发明的制作方法并不改变原来的等离子显示屏的制作工艺,只是在介质保护层上增加了一层晶粒层,工艺过程简单,按照现有设备即可实施,介质保护层和晶粒层组成具有双层结构的介质保护膜,而且,由于晶粒层的晶粒具有高的二次电子发射系数,应用到等离子显示屏上,降低了等离子显示屏的放电电压。
搜索关键词: 等离子 显示屏 介质 保护膜 及其 制作方法 含有
【主权项】:
一种等离子显示屏的介质保护膜的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:1)在介质层上制备介质保护层;2)在所述介质保护层上形成晶粒层,所述介质保护层和所述晶粒层形成所述介质保护膜。
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