[发明专利]背镀金属LED的切割方法无效

专利信息
申请号: 201110458142.9 申请日: 2011-12-31
公开(公告)号: CN103956412A 公开(公告)日: 2014-07-30
发明(设计)人: 李虹 申请(专利权)人: 聚灿光电科技(苏州)有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 代理人: 张利强
地址: 215123 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种背镀金属LED的切割方法,该背镀金属LED包括基板、位于基板上方的N-GaN层、分别位于N-GaN层上方的负极、P-GaN层与正极,以及位于基板下方的金属背板,该方法包括依次进行的如下步骤生长SiO2层、涂覆光刻胶、光刻、蚀刻SiO2沟槽、GaN刻蚀、去光刻胶、SiO2腐蚀、隐形切割。由于采用上述技术方案,利用SiO2和光刻胶做研磨材料,将MESA处的N-GaN全部刻蚀掉,如此可对其进行正面隐形切割,提高出光效率,由于避免了普通紫外切割所引起的侧壁烧焦,减少了吸光,也就提升了亮度。此外,如果做了隐形切割就不用做侧腐蚀SWE的洗边工艺了,简化了前制程的工艺。
搜索关键词: 镀金 led 切割 方法
【主权项】:
一种背镀金属LED的切割方法,所述的背镀金属LED包括基板、位于所述的基板上方的N‑GaN层、分别位于所述的N‑GaN层上方的负极、P‑GaN层与正极,以及位于所述的基板下方的金属背板,其特征在于:该方法包括依次进行的如下步骤:(a)生长SiO2层:生长一层覆盖于所述的N‑GaN层、负极、P‑GaN层以及正极上方的SiO2层;(b)涂覆光刻胶:在所述的SiO2层上方涂覆一层光刻胶;(c)光刻:通过曝光机蚀刻除去位于分割位置处的光刻胶;(d)蚀刻SiO2沟槽:蚀刻除去位于分割位置处的SiO2;(e)GaN刻蚀:蚀刻除去位于分割位置处的GaN层;(f)去光刻胶:去除剩余的光刻胶;(g)SiO2腐蚀:去除剩余的SiO2;(h)隐形切割:通过隐形切割的方式于分割位置切割所述的基板与金属背板。
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