[实用新型]双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机有效
申请号: | 201120001278.2 | 申请日: | 2011-01-05 |
公开(公告)号: | CN201931205U | 公开(公告)日: | 2011-08-17 |
发明(设计)人: | 陈刚;任清荣;辛天才 | 申请(专利权)人: | 武汉吉事达激光技术有限公司 |
主分类号: | B23K26/36 | 分类号: | B23K26/36;B23K26/08;B23K26/04;B23K26/42 |
代理公司: | 武汉帅丞知识产权代理有限公司 42220 | 代理人: | 朱必武;曾祥斌 |
地址: | 430071 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型提供一种双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机,包括机架、控制系统、计算机系统、激光发生器、吸附平台、二维振镜头、一维运动平台和F-θ透镜组,控制系统、计算机系统、吸附平台和激光发生器都安装在机架上,激光发生器、二维振镜头和F-θ透镜组安装在吸附平台上方,激光发生器的激光出光孔与二维振镜头的激光进光孔同心,F-θ透镜组安装在二维振镜头下部,一维运动平台安装在机架与吸附平台之间,吸附平台的长度大于所刻蚀ITO薄膜材料宽度的两倍。本双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机,辅助时间短,生产效率高。 | ||
搜索关键词: | 双工 触摸屏 ito 薄膜 激光 刻蚀 | ||
【主权项】:
双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机,包括机架、控制系统、计算机系统、激光发生器、吸附平台、二维振镜头和F θ透镜组,控制系统、计算机系统、吸附平台和激光发生器都安装在机架上,激光发生器、二维振镜头和F θ透镜组安装在吸附平台上方,激光发生器的激光出光孔与二维振镜头的激光进光孔同心,F θ透镜组安装在二维振镜头下部,其特征在于:还包括一维运动平台;一维运动平台安装在机架与吸附平台之间,吸附平台的长度大于所刻蚀ITO薄膜材料宽度的两倍。
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