[实用新型]半导体封装模具构造有效
申请号: | 201120046454.4 | 申请日: | 2011-02-22 |
公开(公告)号: | CN202003968U | 公开(公告)日: | 2011-10-05 |
发明(设计)人: | 崔军;赵冬冬;郭桂冠 | 申请(专利权)人: | 苏州日月新半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56;B29C45/26 |
代理公司: | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 翟羽 |
地址: | 215021 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开一种半导体封装模具构造,其包含一第一模具部及一第二模具部,所述第二模具部与所述第一模具部对应配合。所述第二模具部设有一注胶室及一料筒室。所述注胶室的各外圆弧壁面分别朝向所述料筒室形成弧凹,并与所述料筒室的圆周或所述注胶室的假想基圆相切,并且相邻的外圆弧壁面之间共同形成相接于各模穴浇口的流道。因此,本实用新型的半导体封装模具构造除了能将封胶均匀及有效率的由各流道分送至各模穴,还能最小化或有效减少所述废胶的体积,从而减少了封胶的材料浪费。 | ||
搜索关键词: | 半导体 封装 模具 构造 | ||
【主权项】:
一种半导体封装模具构造,其特征在于,其包含:一第一模具部;一第二模具部,与所述第一模具部对应配合;一注胶室,设于所述第二模具部与所述第一模具部的一合模面上,所述注胶室是通过一注胶室壁面所定义形成的,所述注胶室壁面依序包含一第一外圆弧壁面、一第二外圆弧壁面、一第三外圆弧壁面及一第四外圆弧壁面,所述第一外圆弧壁面与所述第三外圆弧壁面相对,所述第二外圆弧壁面与所述第四外圆弧壁面相对;一料筒室,贯穿连通所述注胶室至所述第二模具部的一外表面,使一压杆可活动于所述料筒室之内;及四流道,其中所述第一、第二、第三及第四外圆弧壁面分别朝向所述料筒室形成弧凹并与所述料筒室的圆周相切,各二相邻的外圆弧壁面之间共同形成一个所述流道。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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