[实用新型]羟基羧酸环状二聚体制造装置无效
| 申请号： | 201120079230.3 | 申请日： | 2011-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN202022870U | 公开（公告）日： | 2011-11-02 |
| 发明（设计）人： | 上川将行;松尾俊明;冈本成恭;冈宪一郎;近藤健之;户村晃;铃木一隆 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立工业设备技术 |
| 主分类号： | C07D319/12 | 分类号： | C07D319/12 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种羟基羧酸环状二聚体制造装置，其特征在于具有水平设置的反应液流路、与反应液流路接触的热介质流路和将反应液流路减压的减压装置。根据所述羟基羧酸环状二聚体制造装置，通过有效地生成羟基羧酸环状二聚体而以高收率获得高品质的聚羟基羧酸。 | ||
| 搜索关键词： | 羟基 羧酸 环状 二聚体 制造 装置 | ||
【主权项】：
羟基羧酸环状二聚体制造装置，其特征在于具有水平设置的反应液流路、与反应液流路接触的热介质流路和将反应液流路减压的减压装置。
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