[实用新型]具有掩模版清洁功能的曝光机有效
| 申请号： | 201120081548.5 | 申请日： | 2011-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN202003138U | 公开（公告）日： | 2011-10-05 |
| 发明（设计）人： | 秦颖;孙亮;孟春霞;郝昭慧;林承武 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及曝光机中清洁掩模版的技术领域，具体公开了一种具有掩模版清洁功能的曝光机。该具有掩模版清洁功能的曝光机包括：曝光机中输送掩模版的输送通道的上方和/或下方安装清洁装置。本实用新型提供的具有清洁功能的曝光机，通过在曝光机内部不同位置安装清洁装置的方法，可以有效去除掩模版表面和/或背面附着的异物，提高掩模版的清洁度，同时不影响曝光机腔室内部的气流分布。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 模版 清洁 功能 曝光 | ||
【主权项】：
一种具有掩模版清洁功能的曝光机，其特征在于，包括：曝光机中输送掩模版的输送通道的上方和/或下方安装掩模版清洁装置。
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