[实用新型]用于真空溅镀的气体混合控制装置有效
| 申请号： | 201120246087.2 | 申请日： | 2011-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN202181341U | 公开（公告）日： | 2012-04-04 |
| 发明（设计）人： | 戴明光 | 申请（专利权）人： | 戴明光;苏州爱迪尔镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 范晴 |
| 地址： | 215101 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于真空溅镀的气体混合控制装置，它包括若干气体储存装置以及与所述的气体储存装置相连的真空溅镀室，它还包括气体流量控制阀以及计算机，所述的气体流量控制阀设于所述的每一气体储存装置与气体预混腔之间，所述的气体流量控制阀与所述的计算机相连。本实用新型在气体储存装置与真空溅镀室增设气体流量控制阀，并且这一气体流量控制阀受计算机控制，精确输送所需要的气体至真空溅镀室中，从而实现对气体量得精确控制，进而提高产品溅镀质量。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 真空 气体 混合 控制 装置 | ||
【主权项】：
一种用于真空溅镀的气体混合控制装置，它包括若干气体储存装置以及与所述的气体储存装置相连的真空溅镀室，其特征在于，它还包括气体流量控制阀以及计算机，所述的气体流量控制阀设于所述的每一气体储存装置与气体预混腔之间，所述的气体流量控制阀与所述的计算机相连。
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