[实用新型]带表面活化的连续真空溅镀装置有效
| 申请号： | 201120246094.2 | 申请日： | 2011-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN202181343U | 公开（公告）日： | 2012-04-04 |
| 发明（设计）人： | 戴明光 | 申请（专利权）人： | 戴明光;苏州爱迪尔镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/56 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 范晴 |
| 地址： | 215101 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种带表面活化的真空溅镀装置，它包括用于表面改质处理的第一真空室以及设于第一真空室后端的若干真空溅镀室，所述的第一真空室前端设有真空活化室，所述的真空活化室内设有阴极电弧源。本实用新型在对基材进行改质处理前，通过阴极弧光源在真空环境下所形成区域性弧光栅对基材表面进行清洗与活化，不但能够完成基材表面的清洁工作，而且能够改变基材的表面张力，在后端进行镀膜时可以更好地完成成膜需求。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 活化 连续 真空 装置 | ||
【主权项】：
一种带表面活化的连续真空溅镀装置，它包括用于表面改质处理的第一真空室以及设于第一真空室后端的若干真空溅镀室，其特征在于，所述的第一真空室前端设有真空活化室，所述的真空活化室内设有阴极电弧源。
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