[实用新型]用于真空镀膜的嵌入式反应腔

摘要

本实用新型公开了一种用于真空镀膜的嵌入式反应腔，包括中间段及设于中间段两端的第一、第二端盖，所述中间段内设电极盒，所述第一、第二端盖分别与中间段密闭连接，所述反应腔还设有两个热循环系统，分别为与反应腔外连接的第一热循环系统和设在反应腔外腔体上的第二热循环系统，所述第一、第二热循环系统共同对所述反应腔加热，当第一热循环系统停止加热时，第二热循环系统继续加热。本实用新型涉及的反应腔既可以由外部的第一热循环系统加热，同时腔体自身也可通过第二热循环系统加热。在双重加热下，可保证内部电极盒温度均匀性。由于腔体具有良好密封性，在去除外部加热后的真空状态下，通过反应腔自身加热也可保证内部热量不易散发。

主权项

一种嵌入式反应腔，包括中间段(2)及设于中间段(2)两端的第一、第二端盖(1、4)，所述中间段(2)内设电极盒(3)，所述第一、第二端盖(1、4)分别与中间段(2)密闭连接，其特征是：所述反应腔还设有两个热循环系统，分别为与反应腔外连接的第一热循环系统和设在反应腔外腔体上的第二热循环系统，所述第一、第二热循环系统共同对所述反应腔加热，当第一热循环系统停止加热时，第二热循环系统继续加热。