[实用新型]一种用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置

摘要

本实用新型公开了一种用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置，包括顶部开设有孔的半球型外壳、与半球型外壳底部连接的底板以及设置在底板上、分布在半球型外壳底部内侧的弧形光源组，在所述半球型外壳顶部开设的孔口处设置有螺套，在所述螺套上、半球型外壳内设置有可相对螺套上下移动的遮光板，在所述半球型外壳内表面均匀的喷涂有高反光率漫反射反光材料。本实用新型能够通过手动调节遮光板的位置，控制磁瓦端面倒角面与弧形平面的照度，一次成像即可获得清晰稳定的图像，降低了图像数据处理量，提高了实时在线处理速度。该光源装置解决了市面上现成光源难以解决的技术问题，而且生产成本较低，在同类应用场合具有推广价值，具有一定的经济性。

主权项

一种用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置，其特征在于：包括顶部开设有孔的半球型外壳（3）、与半球型外壳（3）底部连接的底板（6）以及设置在底板（6）上、分布在半球型外壳（3）底部内侧的弧形光源组，在所述半球型外壳（3）顶部开设的孔口处设置有螺套（1），在所述螺套（1）上、半球型外壳（3）内设置有可相对螺套（1）上下移动的遮光板（2），在所述半球型外壳（3）内表面均匀的喷涂有高反光率漫反射反光材料。