[实用新型]双波纹管结构的化学气相沉积设备有效
申请号: | 201120333710.8 | 申请日: | 2011-09-06 |
公开(公告)号: | CN202279856U | 公开(公告)日: | 2012-06-20 |
发明(设计)人: | 甘志银 | 申请(专利权)人: | 甘志银 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 李平 |
地址: | 528251 广东省佛山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种双波纹管结构的化学气相沉积设备,包括反应气体导入部件、反应腔体、上盖部件、闸板阀、固定底板、上下升降板驱动部件、上下波纹管、载片盘、石英罩、加热器,所述气体导入部件经上升降板驱动控制升降运动;加热器经下升降板驱动控制升降运动;载片盘经下升降板驱动控制升降运动;上升降板和下升降板升降运动过程中分别由上波纹管和下波纹管保证反应腔体密封;上盖支撑上设有闸板阀可供外部机械手装卸圆片用。本实用新型的优点是反应气体气体导入部件、加热器、载片盘均能进行升降运动,既能为化学气相沉积工艺进行反应腔体高度调节,也能为设备维修拆卸提供便利,上盖支撑上设置的闸板阀也能为外部机械手自动装卸圆片提供窗口。 | ||
搜索关键词: | 波纹管 结构 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种双波纹管结构的化学气相沉积设备,包括:反应气体导入部件(1)、反应腔体(2)、腔体上盖(4)、上盖支撑(5)、闸板阀(6)、固定底板(11)、上升降板驱动(23)、上升降板驱动杆(26)、上升降板导柱(7)、上升降板(28)、上波纹管(3)、气体导入部件支撑(27)、下升降板驱动(22)、下升降板驱动杆(21)、下升降板导柱(12)、下升降板(13)、下波纹管(14)、载片盘支撑(17)、石英罩(20)、载片盘(16)、加热器支撑(18)、加热器(19)和反应腔壳体(25),其特征在于反应气体导入部件(1)由反应气体导入部件支撑(27)固定支撑,反应气体导入部件支撑(27)与上升降板(28)固定连接,反应气体导入部件支撑(27)上设有上波纹管(3),上波纹管(3)与腔体上盖(4)连接,载片盘(16)通过石英罩(20)和载片盘支撑(17)固定在下升降板(13)上,加热器(19)通过加热器支撑(18)固定在下升降板(13)上,下升降板(13)连接下波纹管(14),底板(11)上设有上升降板驱动(23)、上升降板驱动杆(26)、上升降板导柱(7)、下升降板驱动(22)、下升降板驱动杆(21)及下升降板导柱(12)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的