[实用新型]一种薄膜结构有效

专利信息
申请号: 201120406921.X 申请日: 2011-10-21
公开(公告)号: CN202388966U 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: 李书铭;吴家铭;蔡国龙;王顺程 申请(专利权)人: 岱纬科技股份有限公司
主分类号: B41M5/00 分类号: B41M5/00;B32B27/06;B32B27/18
代理公司: 广州中浚雄杰知识产权代理有限责任公司 44254 代理人: 张少君
地址: 中国台湾台南*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种薄膜结构,尤指应用于模内漾印制程,其包括有一基层、适刮层、离型层、硬镀层、装饰层及黏着层。而基层、适刮层、离型层、硬镀层、装饰层及黏着层系依序堆栈设置,且适刮层远离基层的另一表面形成有刷纹,使刷纹位于适刮层与离型层之间;如此,将薄膜使用于模内漾印制程中,透过该薄膜的适刮层形成有刷纹,使得经由射出成型后的壳体其表面可呈现无残屑的触感发丝效果,即可于壳体其表面产生具景深效果的线条表现,以达到制程简便的效益。
搜索关键词: 一种 薄膜 结构
【主权项】:
一种薄膜结构,所述薄膜结构包括有:  一基层;  一适刮层,所述适刮层设于基层一表面,且适刮层远离基层的另一表面形成有刷纹;  一离型层,所述离型层设于适刮层具有刷纹的表面;  一硬镀层,所述硬镀层设于离型层另一表面并远离所述适刮层;  一装饰层,所述装饰层设于硬镀层另一表面并远离所述离型层;及  一黏着层,所述黏着层设于装饰层另一表面并远离所述硬镀层。
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