[发明专利]表面处理铜箔,其制造方法以及覆铜层压印刷电路板有效
申请号: | 201180004965.2 | 申请日: | 2011-01-21 |
公开(公告)号: | CN102713020A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 藤泽哲;宇野岳夫;服部公一 | 申请(专利权)人: | 古河电气工业株式会社;新日铁化学株式会社 |
主分类号: | C25D7/06 | 分类号: | C25D7/06;B32B15/01;B32B15/08;C25D5/10;H05K1/09 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 谢顺星;张晶 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种工业上优异的表面处理铜箔,可满足与聚酰亚胺等绝缘树脂的粘合性、耐热粘合性、耐药品性及软蚀刻性。并且提供一种表面处理铜箔的制造方法,绝缘树脂与铜箔间的粘接强度强,在形成电路时具有耐药品性,在由激光加工形成孔后也有良好的软蚀刻性。对基材铜箔进行粗化处理,使表面粗糙度Rz在1.1μm以下,在该粗化处理表面上形成Ni-Zn合金层。所述粗化处理在粗化处理面上形成宽度为0.3~0.8μm,高度为0.6~1.8μm,高宽比为1.2~3.5的前端尖细的凸部形状,使所述基材铜箔的表面粗糙度Rz在增加0.05~0.3μm的范围内实施,所述Ni-Zn合金层的Zn含量(wt%)为6~30%,Zn附着量在0.08mg/dm2以上。 | ||
搜索关键词: | 表面 处理 铜箔 制造 方法 以及 层压 印刷 电路板 | ||
【主权项】:
一种表面处理铜箔,其特征在于,对基材铜箔,即未处理铜箔的至少一个面进行粗化处理,使表面粗糙度Rz在1.1μm以下,在该粗化处理表面上施加Ni‑Zn合金层;实施所述粗化处理,在粗化处理面上形成宽度为0.3~0.8μm,高度为0.6~1.8μm,高宽比为1.2~3.5μm的前端尖细的凸部形状;所述粗化处理使所述基材铜箔的表面粗糙度Rz的增加范围为0.05~0.3μm;所述Ni‑Zn合金层用下式表示含量wt%:Zn含量(wt%)=Zn附着量/(Ni附着量+Zn附着量)×100其中,Zn含量为6~30%,Zn的附着量在0.08mg/dm2以上。
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