[发明专利]表面处理铜箔,其制造方法以及覆铜层压印刷电路板有效

专利信息
申请号: 201180004965.2 申请日: 2011-01-21
公开(公告)号: CN102713020A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 藤泽哲;宇野岳夫;服部公一 申请(专利权)人: 古河电气工业株式会社;新日铁化学株式会社
主分类号: C25D7/06 分类号: C25D7/06;B32B15/01;B32B15/08;C25D5/10;H05K1/09
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 谢顺星;张晶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种工业上优异的表面处理铜箔,可满足与聚酰亚胺等绝缘树脂的粘合性、耐热粘合性、耐药品性及软蚀刻性。并且提供一种表面处理铜箔的制造方法,绝缘树脂与铜箔间的粘接强度强,在形成电路时具有耐药品性,在由激光加工形成孔后也有良好的软蚀刻性。对基材铜箔进行粗化处理,使表面粗糙度Rz在1.1μm以下,在该粗化处理表面上形成Ni-Zn合金层。所述粗化处理在粗化处理面上形成宽度为0.3~0.8μm,高度为0.6~1.8μm,高宽比为1.2~3.5的前端尖细的凸部形状,使所述基材铜箔的表面粗糙度Rz在增加0.05~0.3μm的范围内实施,所述Ni-Zn合金层的Zn含量(wt%)为6~30%,Zn附着量在0.08mg/dm2以上。
搜索关键词: 表面 处理 铜箔 制造 方法 以及 层压 印刷 电路板
【主权项】:
一种表面处理铜箔,其特征在于,对基材铜箔,即未处理铜箔的至少一个面进行粗化处理,使表面粗糙度Rz在1.1μm以下,在该粗化处理表面上施加Ni‑Zn合金层;实施所述粗化处理,在粗化处理面上形成宽度为0.3~0.8μm,高度为0.6~1.8μm,高宽比为1.2~3.5μm的前端尖细的凸部形状;所述粗化处理使所述基材铜箔的表面粗糙度Rz的增加范围为0.05~0.3μm;所述Ni‑Zn合金层用下式表示含量wt%:Zn含量(wt%)=Zn附着量/(Ni附着量+Zn附着量)×100其中,Zn含量为6~30%,Zn的附着量在0.08mg/dm2以上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于古河电气工业株式会社;新日铁化学株式会社,未经古河电气工业株式会社;新日铁化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180004965.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top