[发明专利]电路基板、半导体装置、电路基板的制造方法以及半导体装置的制造方法有效
申请号: | 201180015573.6 | 申请日: | 2011-02-24 |
公开(公告)号: | CN102822961A | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
发明(设计)人: | 近藤正芳;牧野夏木;藤原大辅;伊藤有香 | 申请(专利权)人: | 住友电木株式会社 |
主分类号: | H01L23/12 | 分类号: | H01L23/12;H01L23/14;H05K1/03 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 金世煜;苗堃 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 电路基板(1)中第一绝缘层(21)的25℃~玻璃化转变温度的基板面内方向的平均线膨胀系数(A)为3ppm/℃~30ppm/℃。另外,第二绝缘层(23)的25℃~玻璃化转变温度的基板面内方向的平均线膨胀系数(B)与第三绝缘层(25)的25℃~玻璃化转变温度的基板面内方向的平均线膨胀系数(C)相等。(B)和(C)大于(A),(A)与(B)的差、(A)与(C)的差为5ppm/℃~35ppm/℃。 | ||
搜索关键词: | 路基 半导体 装置 制造 方法 以及 | ||
【主权项】:
一种电路基板,具备:第一绝缘层,贯通有导体,第一电路层,设置在所述第一绝缘层的一侧,与所述导体连接,第二绝缘层,覆盖所述第一电路层并且在所述第一电路层的一部分上形成有开口,第二电路层,设置在所述第一绝缘层的另一侧,与所述导体连接,第三绝缘层,覆盖所述第二电路层,焊料层,设置在所述第二绝缘层的开口内、且设置在所述第一电路层上;所述第一绝缘层的25℃~玻璃化转变温度的基板面内方向的平均线膨胀系数A为3ppm/℃~30ppm/℃,所述第二绝缘层的25℃~玻璃化转变温度的基板面内方向的平均线膨胀系数B与所述第三绝缘层的25℃~玻璃化转变温度的基板面内方向的平均线膨胀系数C相等,所述第二绝缘层的25℃~玻璃化转变温度的基板面内方向的平均线膨胀系数B和所述第三绝缘层的25℃~玻璃化转变温度的基板面内方向的平均线膨胀系数C大于所述第一绝缘层的平均线膨胀系数A,所述第一绝缘层的平均线膨胀系数A与所述第二绝缘层的平均线膨胀系数B的差、所述第一绝缘层的平均线膨胀系数A与所述第三绝缘层的平均线膨胀系数C的差为5ppm/℃~35ppm/℃。
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