[发明专利]曝光装置的制造方法及组件制造方法有效
申请号: | 201180015664.X | 申请日: | 2011-02-10 |
公开(公告)号: | CN102834775A | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
发明(设计)人: | 一之濑刚 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 曹瑾 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的曝光装置的制造方法包含为使机体的计量架的绝对基准面与载台模块的载台位置基准面间的位置关系成为所欲关系,而调整用以决定机体与载台模块间的对接时位置关系的定位装置的动作(步骤412~418)。如此,之后仅需通过定位装置将机体与载台模块加以对接,机体的絶对基准面与载台模块的载台位置基准面间的位置关系即成为所欲关系。 | ||
搜索关键词: | 曝光 装置 制造 方法 组件 | ||
【主权项】:
一种曝光装置的制造方法,以制造该曝光装置,该曝光装置具备包含机体、与对接于该机体的第1模块的多个模块,用以使感应物体曝光,该方法包含:为了使与运送的该机体实质上为相同构件的机体工具与该第1模块对接时两者的位置关系成为所欲关系,而调整设在该机体工具与该第1模块之间的第1定位装置的动作;对通过该调整后该第1定位装置与该机体工具对接时的位置关系成为该所欲关系的该第1模块加以运送的动作;以及在运送目的地,通过与该第1定位装置具有相同构成的第2定位装置将该机体与该第1模块彼此加以对接的动作,其中该第2定位装置是与该调整后的该第1定位装置为相同状态且设在该机体与该第1模块之间。
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