[发明专利]光半导体集成元件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201180017099.0 申请日: 2011-01-12
公开(公告)号: CN102834990A 公开(公告)日: 2012-12-19
发明(设计)人: 奥村滋一;江川满;苫米地秀一;植竹理人 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: H01S5/026 分类号: H01S5/026
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 崔香丹;张永康
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的是提高光半导体集成元件的可靠性及性能。本发明的光半导体集成元件(1),其含有在基板(30)的(001)面上方形成的第1光半导体元件(10)、和在基板(30)的(001)面上方且在第1光半导体元件(10)的[110]方向上与第1光半导体元件(10)光学连接地形成的第2光半导体元件(20)。第1光半导体元件(10),其含有第1芯层(11)、和在第1芯层(11)上方形成且在第2光半导体元件(20)侧的侧面上具有与(001)面构成的角度θ为55°以上且90°以下的结晶面的第1覆层(12)。
搜索关键词: 半导体 集成 元件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种光半导体集成元件,其特征在于,其含有在基板的(001)面上方形成的第1光半导体元件、和在前述基板的(001)面上方且在前述第1光半导体元件的[110]方向上与前述第1光半导体元件光学连接地形成的第2光半导体元件,并且,前述第1光半导体元件,含有第1芯层、和在前述第1芯层上方形成且在前述第2光半导体元件侧的侧面上具有与(001)面构成的角度为55°以上且90°以下的第1结晶面的第1覆层。
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