[发明专利]曝光装置、基板处理装置以及器件制造方法

摘要

本发明提供一种曝光装置、基板处理装置以及器件制造方法。曝光装置使沿规定的圆筒面设置的图案在上述圆筒面的圆周方向旋转并将上述图案转印至基板，曝光装置具备：第一投影光学系统，该第一投影光学系统将上述图案中的配置于上述圆筒面的第一区域的第一部分图案的像投影于第一投影区域；第二投影光学系统，该第二投影光学系统将上述图案中的配置于与上述第一区域不同的第二区域的第二部分图案的像投影于与上述第一投影区域不同的第二投影区域；以及引导装置，该引导装置与上述图案的在上述圆周方向的旋转同步地将上述基板向上述第一投影区域以及上述第二投影区域引导。

主权项

一种曝光装置，使沿规定的圆筒面设置的图案在所述圆筒面的圆周方向旋转并将所述图案转印至基板，其特征在于，具备：第一投影光学系统，该第一投影光学系统将所述图案中的配置于所述圆筒面的第一区域的第一部分图案的像投影于第一投影区域；第二投影光学系统，该第二投影光学系统将所述图案中的配置于与所述第一区域不同的第二区域的第二部分图案的像投影于与所述第一投影区域不同的第二投影区域；以及引导装置，该引导装置与所述图案的在所述圆周方向的旋转同步地将所述基板向所述第一投影区域以及所述第二投影区域引导。