[发明专利]成膜方法及成膜装置有效
| 申请号： | 201180019919.X | 申请日： | 2011-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN103140598A | 公开（公告）日： | 2013-06-05 |
| 发明（设计）人： | 盐野一郎;宫内充祐;姜友松 | 申请（专利权）人： | 新柯隆株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/22 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 李逸雪 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种成膜方法，该成膜方法能够有效地形成在实用中耐用的并且耐磨耗性能被进一步提高的疏油膜。在成膜装置(1)具有离子源(38)和蒸发源(34)，该成膜装置(1)以在真空容器(10)内能转动的方式配置基板座(12)，该基板座(12)具有用于保持多个基板(14)的基体保持面；所述离子源(38)，以能够仅向着所述基体保持面的一部分区域照射离子的结构、配置以及/或方向被设置在所述真空容器(10)内；蒸发源(34)，以能够向着所述基体保持面的全部区域提供疏油膜的成膜材料的配置以及方向被设置在所述真空容器(10)内，该成膜装置被构成为：在所述蒸发源(34)的动作开始前，使所述离子源(38)的动作停止。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种成膜方法，其特征在于，通过向基体保持单元的基体保持面的一部分区域照射离子，从而仅对由所述基体保持面保持且转动中的多个基体中的、移动到所述区域的特定基体的组照射所述离子，之后在中止了所述离子照射的状态下，通过向所述基体保持面的全部区域提供疏油膜的成膜材料，从而向全部所述基体提供所述成膜材料，使疏油膜堆积在所述基体的表面上。
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