[发明专利]用于按照EB/PVD方法为基底涂层的设备有效
| 申请号： | 201180020173.4 | 申请日： | 2011-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN103298968B | 公开（公告）日： | 2016-11-09 |
| 发明（设计）人： | J·霍茨;P·塞泽尔科;J·维蒂希;H·埃伯哈特;M·基尔施纳;W·里特 | 申请（专利权）人： | ALD真空技术有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/30;H01J37/305 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 梁冰;杨国治 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 为了能够利用蒸发设备提供两种不同的蒸发材料，要利用该蒸发设备为特别是涡轮机叶片涂层，而提出一种可线性运行的支架，在所述支架上布置两个分别具有前坩埚和后坩埚的坩埚装置。根据支架运行到哪个位置上，使得前坩埚或者后坩埚位于工作位置中，其中在待涂层的基底之间延伸的电子束可到达所述坩埚。材料输送借助提升装置来实现，所述提升装置由真空腔(4)外部的马达来驱动。与所述提升装置的连接通过伸缩轴来实现，所述伸缩轴在支架(1)运行时可伸长或者收缩。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 按照 eb pvd 方法 基底 涂层 设备 | ||
【主权项】：
一种用于按照EB/PVD方法用涂层材料为基底涂层的设备，其包括：由至少两个在水平面内相互错位布置的坩埚构成的坩埚装置，所述坩埚装置被布置在能水平移位的支架（1）内，其中在所述支架（1）内在每个坩埚之下布置至少一个用于容纳由涂层材料构成的材料条的管道（13）；和至少一个提升装置（21），借助所述提升装置使布置在所述管道（13）内的材料条能通过坩埚底部而被引入到所述坩埚中，以便在那里通过利用来自电子枪的电子束进行照射而蒸发，其特征在于，每个坩埚配备有一布置在所述支架（1）中的提升装置（21），并且所述支架（1）能线性地在坩埚位移的方向上移位。
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