[发明专利]卤素气体或卤素化合物气体的填充容器用阀有效

专利信息
申请号: 201180021294.0 申请日: 2011-03-08
公开(公告)号: CN102884348A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 梅崎智典;田仲健二;八尾章史;宫崎达夫;毛利勇;川岛忠幸 申请(专利权)人: 中央硝子株式会社
主分类号: F16K7/12 分类号: F16K7/12;F16J3/02;F16K1/30;F16K27/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种卤素气体或卤素化合物气体的填充容器用阀。根据本发明,直接接触型隔膜阀包括:阀主体,其设有入口通路和出口通路;阀室,其用于与阀主体的入口通路和出口通路相连通;阀座部,其设于入口通路的内端开口部;膜片,其设于阀座部的上方,用于保持阀室内的气密状态,并且用于开闭入口通路及出口通路;阀杆,其用于使膜片的中央部向下方下降;驱动部,其用于使阀杆沿上下方向移动,该直接接触型隔膜阀的特征在于,在阀座部与膜片相接触的接触面中,阀座部的接触面的表面粗糙度Ra的值为0.1μm~10.0μm,阀座部的接触面的曲率半径R为100mm~1000mm,膜片与阀座部相接触的接触面积Sb同膜片的气体接触部表面积Sa的面积比率Sb/Sa为0.2%~10%。本发明的阀具有充分的气密性,可以较佳地用作卤素气体或卤素化合物气体用的填充容器用阀。
搜索关键词: 卤素 气体 化合物 填充 容器
【主权项】:
一种直接接触型隔膜阀,该直接接触型隔膜阀包括:阀主体,其设有入口通路和出口通路,卤素气体或卤素化合物气体在该阀主体内部流通;阀室,其用于与阀主体的入口通路和出口通路相连通;阀座部,其设于入口通路的内端开口部;膜片,其设于阀座部的上方,用于保持阀室内的气密状态,并且用于开闭入口通路及出口通路;阀杆,其用于使膜片的中央部向下方下降;驱动部,其用于使阀杆沿上下方向移动,该直接接触型隔膜阀的特征在于,在阀座部与膜片相接触的接触面中,阀座部的接触面的表面粗糙度Ra的值为0.1μm~10.0μm,阀座部的接触面的曲率半径R为100mm~1000mm,膜片与阀座部相接触的接触面积Sb同膜片的气体接触部表面积Sa的面积比率Sb/Sa为0.2%~10%。
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