[发明专利]液浸构件及液浸曝光装置无效

专利信息
申请号: 201180024575.1 申请日: 2011-07-13
公开(公告)号: CN102918462A 公开(公告)日: 2013-02-06
发明(设计)人: 佐藤真路 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 曹瑾
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种液浸构件(3),配置在液浸曝光装置(Ex)内,且至少部分配置于光学构件(8)周围及通过光学构件与物体(P)之间的液体的曝光用光的光路(K)周围。液浸构件具备:第1构件(28),具有回收物体上的空间的液体的至少一些的回收口(18);回收流路(19),供从回收口回收的液体流动;第2构件(27),面对回收流路并具有用以从回收流路排出液体的第1排出口(21);以及第3构件(32),面对回收流路并具有用以从回收流路排出气体的第2排出口(22)。第2构件包含第1部分(271)与配置于较第1部分高的位置且能排出较第1部分多的液体的第2部分(272)。
搜索关键词: 构件 曝光 装置
【主权项】:
一种液浸构件,配置在液浸曝光装置内,且至少部分配置于光学构件周围及通过所述光学构件与物体之间的液体的曝光用光的光路周围,包含:第1构件,具有回收所述物体上的空间的液体的至少一些的回收口;回收流路,供透过所述回收口回收的所述液体流动;第2构件,面对所述回收流路并具有用以从所述回收流路排出液体的第1排出口;以及第3构件,面对所述回收流路并具有用以从所述回收流路排出气体的第2排出口;其中,所述第2构件包含第1部分与配置于较所述第1部分高的位置且能排出较所述第1部分多的液体的第2部分。
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