[发明专利]半导体装置的制造方法无效

专利信息
申请号: 201180025735.4 申请日: 2011-05-17
公开(公告)号: CN102906563A 公开(公告)日: 2013-01-30
发明(设计)人: 初川聪 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社
主分类号: G01N25/72 分类号: G01N25/72;G01R31/26;H01L25/07;H01L25/18
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 李亚;穆德骏
地址: 日本大阪*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种半导体装置的制造方法,其中,将多个SiC半导体芯片安装到安装基板上(S1),对安装基板上的SiC半导体芯片施加电压(S2)。在施加有电压的状态下,使用红外线热像仪、红外线显微镜等热影像装置获取安装基板表面的温度分布图像(S3),通过进行图像解析从而判断不合格芯片的有无(S5)。在安装基板上包含不合格芯片时(S5:是),通过切断该不合格芯片的配线从而排除不合格芯片(S7)。由此,提供一种使用小容量芯片的半导体装置的制造方法。
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法
【主权项】:
一种半导体装置的制造方法,包括:在基板上形成并联连接多个半导体元件的电路的工序;以及检查工序,对构成上述电路的半导体元件进行检查,上述半导体装置的制造方法的特征在于,上述检查工序包括如下工序:对形成于上述基板上的电路中所包含的各半导体元件施加电压;检测各半导体元件是否伴随施加电压而发热;以及切断检测出发热的半导体元件与其它半导体元件之间的连接。
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