[发明专利]发光装置及其制造方法有效
| 申请号： | 201180026537.X | 申请日： | 2011-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN102918662A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 市川将嗣 | 申请（专利权）人： | 日亚化学工业株式会社 |
| 主分类号： | H01L33/02 | 分类号： | H01L33/02 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 舒艳君;李洋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种抑制元件内部的光的衰减、且出光效率高的发光装置及其制造方法。该发光装置依序包含透光性部件、具有半导体层叠部的发光元件、以及设置在半导体层叠部的电极，发光元件自透光性部件侧起具有第1区域及第2区域，透光性部件自发光元件侧起具有第3区域及第4区域，与第2区域相比，第1区域的原子排列不规则，与第4区域相比，第3区域的原子排列不规则，第1区域与第3区域直接接合。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种发光装置，其按顺序包括透光性部件、具有半导体层叠部的发光元件和设置在上述半导体层叠部的电极，其特征在于，上述发光元件从上述透光性部件侧起具有第1区域和第2区域，上述透光性部件从上述发光元件侧起具有第3区域和第4区域，与上述第2区域相比，上述第1区域的原子排列不规则，与上述第4区域相比，上述第3区域的原子排列不规则，上述第1区域与上述第3区域直接接合。
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