[发明专利]整平处理装置和具备该整平处理装置的涂敷膜制造装置以及涂敷膜制造方法无效
申请号: | 201180027900.X | 申请日: | 2011-05-19 |
公开(公告)号: | CN102933314A | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 盐崎唯史;神德千幸;吉村和也 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | B05C11/08 | 分类号: | B05C11/08;B05C9/12;B05D3/12 |
代理公司: | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人: | 权鲜枝 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 整平处理装置(10A)具备:输送机,其一边支撑上表面涂敷有包含涂敷膜材料的溶液的基板(100)的下表面,一边沿着搬运方向搬运支撑的基板(100);以及振动施加单元(20A),其对沿着上述搬运方向在由输送机所规定的输送机搬运路(11)上移动的基板(100)施加振动,由此进行涂敷于基板(100)的溶液的整平处理。 | ||
搜索关键词: | 处理 装置 具备 涂敷膜 制造 以及 方法 | ||
【主权项】:
一种整平处理装置,具备:输送机(8),其一边支撑上表面涂敷有包含涂敷膜材料的溶液(102)的基板(100)的下表面,一边沿着搬运方向搬运支撑的基板(100);以及振动施加机构,其对沿着上述搬运方向在由上述输送机(8)所规定的输送机搬运路(11)上移动的基板(100)施加振动,由此进行涂敷于基板(100)的溶液(102)的整平处理。
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