[发明专利]用于快速估计集成电路布局中的光刻绑定图案的方法

摘要

本发明提供光刻难度度量，该光刻难度度量是以下因子的函数：能量比因子，包括衍射级沿着空间频率空间的角度坐标θi的难以印刷能量与易于印刷能量之比；能量熵因子，包括所述衍射级沿着所述角度坐标θi的能量熵；相位熵因子，包括所述衍射级沿着所述角度坐标θi的相位熵；以及总能量熵因子，包括所述衍射级的总能量熵(430，440)。难以印刷能量包括衍射级在空间频率空间的归一化径向坐标r的如下值处的能量，这些值在r＝0的邻域中和在r＝1的邻域中，并且易于印刷能量包括衍射级位于归一化径向坐标r的中间值处的能量，这些中间值在r＝0的邻域与r＝1的邻域之间。光刻难度度量的值可以用来标识设计布局的图案，这些图案是优化计算中的绑定图案。光刻难度度量可以用来设计具有良好、相对易于印刷特性的集成电路。

主权项

一种设计集成电路布局的方法，包括以下步骤：提供待印刷的特征的多个布局(410)；针对所述多个布局中的每个布局确定空间频率空间中的衍射级(420)；提供包括以下各项的函数的光刻难度度量(430，440)：能量比因子，包括所述衍射级沿着所述空间频率空间的角度坐标θi的难以印刷能量与易于印刷能量之比，其中所述难以印刷能量包括所述衍射级在所述空间频率空间的归一化径向坐标r的值处的能量，所述值在r＝0的邻域中并且在r＝1的邻域中，并且所述易于印刷能量包括所述衍射级的位于所述归一化径向坐标r的中间值处的能量，所述中间值在所述r＝0的邻域与所述r＝1的邻域之间；能量熵因子，包括所述衍射级沿着所述角度坐标θi的能量熵；相位熵因子，包括所述衍射级沿着所述角度坐标θi的相位熵；以及总能量熵因子，包括所述衍射级的总能量熵；针对所述多个布局中的每个布局计算所述光刻难度度量的值(450)；并且基于所述光刻难度度量的所述值评价所述多个布局中的每个布局(460)。