[发明专利]排气处理系统无效
| 申请号： | 201180037681.3 | 申请日： | 2011-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN103052435A | 公开（公告）日： | 2013-04-17 |
| 发明（设计）人： | 大内太;冈部隆志;朝野刚 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石能源株式会社 |
| 主分类号： | B01D53/46 | 分类号： | B01D53/46;C01B33/04;H01L21/205 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 从半导体制造装置（1）排出含有单硅烷的混合气体。泵部（2），抽吸从半导体制造装置（1）排出的混合气体，送向后级的硅烷气体处理部（20）。在泵部（2）中，作为吹扫用气体使用氩气。硅烷气体处理部（20），对从半导体制造装置（1)通过泵部（2）而排出的至少含有单硅烷和氩的混合气体进行处理，分离回收单硅烷而进行再利用。稀有气体处理部（30），从混合气体中分离回收氩进行再利用。经稀有气体处理部（30）回收的氩可作为泵部（2）的吹扫气体来使用。 | ||
| 搜索关键词： | 排气 处理 系统 | ||
【主权项】：
一种从自半导体制造装置排出的至少含有氢和单硅烷的混合气体中回收单硅烷的排气处理系统，其特征在于，包括：将从半导体制造装置排出的混合气体进行排气的泵部，和从所述混合气体中分离并回收单硅烷，在半导体装置中进行再利用的硅烷气体处理部；并且，使用氩作为向所述泵部导入的吹扫气体。
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