[发明专利]裸芯预剥离设备和方法有效
申请号: | 201180037753.4 | 申请日: | 2011-06-21 |
公开(公告)号: | CN103098170B | 公开(公告)日: | 2016-11-02 |
发明(设计)人: | 邱进添;H.塔基亚尔;刘宁;张记东;吕忠;邰恩勇;N.艾丽帕拉卡尔 | 申请(专利权)人: | 晟碟半导体(上海)有限公司;晟碟信息科技(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/67;H01L21/301 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 200241 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 公开了一种将贴附在切片带(200)上的半导体裸芯(212)由所述切片带预剥离的设备(100)和方法。该设备(100)包括腔体(110),所述腔体具有底部基底(112)、顶部开口(114)和从基底(112)的周边向上延伸的环形侧壁(116)。侧壁(16)具有大致平的顶部表面。该设备(100)还包括设置在腔体(110)之上的盖子(120)。盖子(120)具有中心开口。该设备(100)还包括设置在基底(112)中的至少一个入口(118),和经由该至少一个入口(118)连接至腔体(110)的压强调节器(150)。切片带(200)被布置在盖子(120)和侧壁(116)的顶部表面之间,以气密密封腔体(110)的顶部开口(114)。半导体裸芯(212)位于腔体(110)的顶部开口(114)的正上方。 | ||
搜索关键词: | 裸芯预 剥离 设备 方法 | ||
【主权项】:
一种将贴附在切片带上的半导体裸芯从所述切片带预剥离的设备,包括:腔体,其具有底部基底,顶部开口和从所述基底的周边向上延伸的环形侧壁,所述侧壁具有平的顶表面;盖子,设置于所述腔体上方,所述盖子具有中心开口;至少一个入口,设置于所述基底中;和压强调节器,经由所述至少一个入口连接到所述腔体,所述压强调节器包括将流体经由所述入口提供到所述腔体的流体源,其中所述切片带设置于所述盖和所述侧壁的顶表面之间以气密地密封所述腔体的顶部开口,且所述半导体裸芯位于所述腔体的顶部开口的正上方。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造