[发明专利]大型基板以及用于均匀抛光的大型基板的抛光方法有效
| 申请号： | 201180038080.4 | 申请日： | 2011-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN103052467A | 公开（公告）日： | 2013-04-17 |
| 发明（设计）人： | 闵庚勋;林艺勋;李大渊;宋在翊;朴寿赞 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B7/20;B24B49/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 许向彤 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 根据本发明，在用于抛光大型板的方法中能够将大型板的中心与边缘的抛光量的差异减到最小。 | ||
| 搜索关键词： | 大型 以及 用于 均匀 抛光 方法 | ||
【主权项】：
一种用于通过移动上板来抛光基板的方法，所述上板上安装有抛光垫，其中，所述上板沿着四边形路径执行抛光工艺，以及其中，所述上板在所述基板的纵向上移动的行程范围（S1）和所述上板在所述基板的横向上移动的行程范围（S2）是被安装在所述上板上的所述抛光垫的直径（D）的90%到100%。
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