[发明专利]磁记录介质用软磁性合金、溅射靶材以及磁记录介质有效

专利信息
申请号: 201180040330.8 申请日: 2011-08-19
公开(公告)号: CN103098135A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 泽田俊之;长谷川浩之;岸田敦 申请(专利权)人: 山阳特殊制钢株式会社
主分类号: G11B5/667 分类号: G11B5/667;C22C19/07;C23C14/34;G11B5/851
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 龚敏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供具有低矫顽磁力、高无定形性、高耐腐蚀性及高硬度的垂直磁记录介质用软磁性合金、以及用于制作该合金的薄膜的溅射靶。该合金以at.%计含有Zr及Hf的1种或2种合计为6~20%、含有B1~20%、含有Ti、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Ni、Al、Si、P的1种或2种以上合计0~7%,剩余部分含有Co和/或Fe、以及不可避免的杂质。该合金还满足6≤2×(Zr%+Hf%)-B%≤16、以及0≤Fe%/(Fe%+Co%)<020。
搜索关键词: 记录 介质 磁性 合金 溅射 以及
【主权项】:
一种磁记录介质用软磁性合金,其以at.%计含有:Zr及Hf的1种或2种:合计为6~20%、B:1~20%、Ti、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Ni、Al、Si、P的1种或2种以上:合计0~7%,剩余部分含有Co和/或Fe、以及不可避免的杂质,并且满足下式:6≤2×(Zr%+Hf%)‑B%≤16、以及0≤Fe%/(Fe%+Co%)<0.20。
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