[发明专利]用于光学发射分析的改善的火花室有效
| 申请号： | 201180042440.8 | 申请日： | 2011-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN103080732A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | J-L.多里耶;F.德马科;E.哈拉什 | 申请（专利权）人： | 赛默飞世尔科技（埃居布朗）有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/67 | 分类号： | G01N21/67 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 谢攀;卢江 |
| 地址： | 瑞士埃*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于光学发射分析器的火花室(110)包括：定位在该火花室(110)的一个第一侧上的一个进气口(125)，该进气口用于将一种气体供应到该火花室(110)中；以及定位在该火花室(110)的一个第二侧上的一个出气口(135)，该出气口被安排成从该火花室(110)运输该气体；其中一个狭长电极(140)被定位在该火花室(110)内，该电极具有总体上沿狭长方向的一个电极轴线(142)；并且其中：该火花室(110)的该第一侧和该第二侧在总体上垂直于该电极轴线(142)的方向上位于该狭长电极(140)的两侧；在该进气口与该出气口之间存在穿过该火花室(110)的一个气流轴线(159)；并且在沿从该进气口(125)到该出气口(135)的气流轴线(159)而过时，该火花室(110)的垂直于该气流轴线的无阻碍的内部截面积在一个因数A内保持恒定，其中A位于1.0与2.0之间。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 发射 分析 改善 火花室 | ||
【主权项】：
一种用于光学发射分析器的火花室，该火花室包括：(1)定位在该火花室的一个第一侧上的一个进气口，该进气口用于将一种气体供应到该火花室中；以及(2)定位在该火花室的一个第二侧上的一个出气口，该出气口被安排成从该火花室运输该气体；其中一个狭长电极被定位在该火花室内，该电极具有总体上沿狭长方向的一个电极轴线；并且其中：(a)该火花室的该第一侧和该第二侧在总体上垂直于该电极轴线的方向上位于该狭长电极的两侧；(b)在该进气口与该出气口之间存在穿过该火花室的一个气流轴线；并且(c)在沿从该进气口到该出气口的该气流轴线而过时，该火花室的垂直于该气流轴线的无阻碍的内部截面积在一个因数A内保持恒定，其中A位于1.0与2.0之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赛默飞世尔科技（埃居布朗）有限公司，未经赛默飞世尔科技（埃居布朗）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201180042440.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：浆料回收托盘
- 下一篇：生产抗震缓冲包装复合板的专用设备
