[发明专利]真空成膜装置有效

专利信息
申请号: 201180042876.7 申请日: 2011-08-30
公开(公告)号: CN103097569A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 天久勇人 申请(专利权)人: 新明和工业株式会社
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 代理人: 曹芳玲
地址: 日本兵库*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的真空成膜装置(100)是在真空状态下对多个基材(20)成膜的成膜装置,具备:用于支持基材的多个基材支持体(23);支持并搬运多个基材支持体(23)的基材单元(2);和具有用于搬入及搬出该基材单元(2)的搬入口(10)以及用于开闭该搬入口(10)的搬入口门(11),且用于形成真空状态的真空槽(1)。基材单元(2)支持多个基材支持体(23)以使其在向真空槽(1)的搬运方向上直列地配置;搬入口(10)根据基材单元(2)的尺寸而形成。借助于此,真空成膜装置(100)减少水分排出所需的时间而能够抑制成膜处理花费的时间。
搜索关键词: 真空 装置
【主权项】:
一种真空成膜装置,是在真空状态下对多个基材成膜的真空成膜装置,具备:用于支持所述基材的多个支持部;支持并搬运所述多个支持部的搬运单元;和具有用于搬入及搬出所述搬运单元的开口部以及用于开闭该开口部的门部,且用于形成真空状态的真空槽;所述搬运单元支持所述多个支持部以使所述多个支持部在向所述真空槽的搬运方向上直列地配置;所述开口部根据所述搬运单元的尺寸而形成。
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