[发明专利]透明导电性膜、其制造方法、电子装置用部件及电子装置有效
申请号: | 201180049693.8 | 申请日: | 2011-10-13 |
公开(公告)号: | CN103262175B | 公开(公告)日: | 2017-03-29 |
发明(设计)人: | 永元公市;近藤健;永绳智史 | 申请(专利权)人: | 琳得科株式会社 |
主分类号: | H01B1/08 | 分类号: | H01B1/08;H01L31/0224;H01L31/0392;H01L31/18 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 蔡晓菡,李炳爱 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明是透明导电性膜等,所述透明导电性膜是具有基材层、阻气层和透明导电体层的透明导电性膜,阻气层由包含硅Si原子、氧O原子和碳C原子的材料构成,该阻气层的表层部中的硅Si原子、氧O原子和碳C原子的含量是,相对于硅Si原子、氧O原子和碳C原子的合计100原子%,硅Si原子18.0~28.0%,氧O原子48.0~66.0%,碳C原子10.0~28.0%,并且,透明导电性膜在40℃90%RH气氛下的水蒸气透过率为6.0g/m2/天以下,波长550nm时的可见光透过率为90%以上。根据本发明,可提供具有优异的阻气性和透明性,即使在高温高湿度环境下,薄层电阻值的变化也少,保持低值,导电性优异的透明导电性膜等。 | ||
搜索关键词: | 透明 导电性 制造 方法 电子 装置 部件 | ||
【主权项】:
透明导电性膜,其特征在于,其为具有基材层、阻气层和透明导电体层的透明导电性膜,所述阻气层由包含硅原子、氧原子和碳原子的材料构成,该阻气层的表层部中的硅原子、氧原子和碳原子的含量是,在XPS的元素分析测定中,相对于硅原子、氧原子和碳原子的合计100原子%,硅原子的含量为18.0%以上且28.0%以下,氧原子的含量为48.0%以上且66.0%以下,碳原子的含量为10.0%以上且28.0%以下,构成上述透明导电体层的材料是含有氧化锌90质量%以上、进而含有镓的氧化物0.05~10质量%的锌系氧化物,并且,透明导电性膜在40℃、相对湿度90%气氛下的水蒸气透过率为6.0g/m2/天以下,波长550nm下的可见光总光线透过率为90%以上,下式所示的薄层电阻值的变化率T1、T2分别为小于1.0、1.0以下,上述式中,R0表示透明导电性膜的初始薄层电阻值,R1表示在60℃的环境下放置3天后的薄层电阻值,R2表示在60℃90%RH环境下放置3天后的薄层电阻值。
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