[发明专利]同位素富集的含硼化合物及其制备和使用方法有效
| 申请号： | 201180049806.4 | 申请日： | 2011-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN103153858A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | R·凯姆;J·D·斯威尼;O·比尔;S·N·耶德卫;E·E·琼斯;邹鹏;唐瀛;B·L·钱伯斯;R·S·雷 | 申请（专利权）人： | 先进技术材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C01B35/06 | 分类号： | C01B35/06;C01B9/08 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人： | 吴晓萍;钟守期 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本文涉及同位素富集的含硼化合物，含有两个或以上的硼原子和至少一个氟原子，其中至少一个硼原子含有所需的硼同位素，所述同位素的浓度或比例高于其天然丰度的浓度或比例。所述化合物可以具有化学式B2F4。本文描述了合成这些化合物的方法和使用这些化合物的离子注入方法，以及描述了贮存和分配容器，其中有利地含有所述同位素富集的含硼化合物用于随后的分配应用。 | ||
| 搜索关键词： | 同位素 富集 化合物 及其 制备 使用方法 | ||
【主权项】：
一种含硼化合物，含有两个或以上的硼原子和至少一个氟原子，其中所述化合物含有硼同位素，其浓度或比例高于其天然丰度的浓度或比例。
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