[发明专利]膜曝光装置

摘要

在膜曝光装置（1）设有引入标记形成部（13），所述引入标记形成部（13）在所供给的膜（2）的前端部形成作为掩模（12）的初始位置的基准的引入标记（2a），利用检测部（15）来检测相对膜的移动方向而言在垂直的方向上的引入标记的位置。而且，根据该检测结果来调整掩模的位置。引入标记例如利用YAG激光来形成。检测部例如是在掩模的下方配置的线阵CCD相机。由此，膜曝光装置能够在开始膜的曝光时精度良好地设定掩模的位置，以高曝光精度对膜进行稳定地曝光。

主权项

一种膜曝光装置，具有：光源，出射曝光光；掩模，形成有既定的光透射区域的图案，使来自所述光源的曝光光与所述图案对应地透射；膜供给部，将曝光对象的膜从其前端部起连续地供给至透射该掩模的光透射区域后的光的光路上；以及掩模支撑部，支撑所述掩模，将透射所述掩模的光透射区域后的光照射至在所述膜的表面形成的曝光材料而对所述膜进行曝光，所述膜曝光装置的特征在于，具有：引入标记形成部，在所述膜的前端部形成作为所述掩模的初始位置的基准的引入标记；检测部，检测相对所述膜的移动方向而言在垂直的方向上的所述引入标记与所述掩模上的标记之间的距离；以及掩模位置控制部，根据该检测部产生的检测结果，调整相对所述膜的移动方向而言在垂直的方向上的所述掩模的位置。