[发明专利]在自旋转移力矩存储器设备中的写电流的降低有效

专利信息
申请号: 201180060785.6 申请日: 2011-12-02
公开(公告)号: CN103262241A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: B·S·多伊尔;D·L·肯克;C·C·郭;D·E·尼科诺夫;R·S·周 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈松涛;王英
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开内容涉及用于非易失性微电子存储器设备的自旋转移力矩存储器元件的制造。所述自旋转移力矩存储器元件可以包括与具体限定了大小和/或形状的固定磁层连接的磁性隧道结,所述固定磁层可以安置在邻接自由磁层的具体的位置处,所述限定了形状的固定磁层可以使自由磁层中的电流集中,这可以带来在自旋转移力矩存储器元件中切换位单元所需的临界电流的降低。
搜索关键词: 自旋 转移 力矩 存储器 设备 中的 电流 降低
【主权项】:
一种磁性隧道结,包括:自由磁层;固定磁层;以及隧道势垒层,设置在所述自由磁层与所述固定磁层之间;其中,所述固定磁层具有比所述自由磁层的表面面积小的表面面积。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司,未经英特尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180060785.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top