[发明专利]成膜装置无效
申请号: | 201180063546.6 | 申请日: | 2011-12-19 |
公开(公告)号: | CN103339281A | 公开(公告)日: | 2013-10-02 |
发明(设计)人: | 田岛三之;内田敬自;藤塚正直;高桥悌二 | 申请(专利权)人: | 佳能特机株式会社 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/50;H05B33/10 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 党晓林;王小东 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供一种成膜装置,即使对于第4代以上的大型基板也能够应对,且实用性非常优异。成膜装置具备成膜室(1),在成膜室(1)中使成膜材料经由掩模(3)附着于保持为直立状态的基板(2),所述成膜装置在成膜室(1)设有:校准驱动机构,其进行掩模(3)与基板(2)的对位,以使掩模(3)相对于基板(2)处于适当位置;蒸发源(100),其能够沿基板(2)或掩模(3)的搬送方向移动;以及掩模搬送机构及基板搬送机构,它们分别将基板(2)和掩模(3)以直立状态搬送至面对蒸发源(100)的多个成膜位置,所述成膜装置构成为,能够一边在一个成膜位置通过蒸发源(100)进行成膜,一边在另一个成膜位置通过校准驱动机构进行掩模(3)与基板(2)的对位。 | ||
搜索关键词: | 装置 | ||
【主权项】:
一种成膜装置,所述成膜装置具备成膜室,在所述成膜室,使成膜材料经由掩模附着于保持为直立状态的基板来进行成膜,所述成膜装置的特征在于,在所述成膜室设有:校准驱动机构,其进行所述掩模与所述基板的对位,使得所述掩模相对于所述基板处于适当位置;蒸发源,其使所述成膜材料附着于能够沿所述基板或所述掩模的搬送方向移动的所述基板;以及掩模搬送机构和基板搬送机构,它们分别将所述掩模和所述基板以直立状态搬送至面对所述蒸发源的多个成膜位置,所述成膜装置构成为,能够一边在一个所述成膜位置利用所述蒸发源进行成膜,一边在另一个所述成膜位置利用所述校准驱动机构进行所述掩模与所述基板的对位。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能特机株式会社,未经佳能特机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180063546.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:中药祛痘提取液及其应用与其制备的祛痘膏
- 下一篇:人工腔道堵塞物原位清除装置
- 同类专利
- 专利分类