[发明专利]被镀层形成用组成物以及具有金属膜的积层体的制造方法有效
申请号: | 201180064165.X | 申请日: | 2011-12-15 |
公开(公告)号: | CN103314135A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 塚本直树 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | C23C18/18 | 分类号: | C23C18/18;B32B15/08;H05K3/18 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 臧建明 |
地址: | 日本东京港区*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的是提供一种可获得无电解镀敷时的镀敷速度提高、并且对基板的密接性进一步提高的金属膜的被镀层形成用组成物、及使用此组成物而实施的具有金属膜的积层体的制造方法被镀层。本发明的被镀层形成用组成物包含式(1)所示的化合物、及具有聚合性基的聚合物。 | ||
搜索关键词: | 镀层 形成 组成 以及 具有 金属膜 积层体 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种被镀层形成用组成物,其包含式(1)所示的化合物、及具有聚合性基的聚合物:[化1]式(1)(式(1)中,R10表示氢原子、金属阳离子、或四级铵阳离子;L10表示单键、或二价有机基;R11~R13分别独立表示氢原子、或经取代或未经取代的烷基;n表示1或2)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
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