[发明专利]被镀层形成用组成物以及具有金属膜的积层体的制造方法有效

专利信息
申请号: 201180064165.X 申请日: 2011-12-15
公开(公告)号: CN103314135A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: 塚本直树 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C23C18/18 分类号: C23C18/18;B32B15/08;H05K3/18
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的是提供一种可获得无电解镀敷时的镀敷速度提高、并且对基板的密接性进一步提高的金属膜的被镀层形成用组成物、及使用此组成物而实施的具有金属膜的积层体的制造方法被镀层。本发明的被镀层形成用组成物包含式(1)所示的化合物、及具有聚合性基的聚合物。
搜索关键词: 镀层 形成 组成 以及 具有 金属膜 积层体 制造 方法
【主权项】:
1.一种被镀层形成用组成物,其包含式(1)所示的化合物、及具有聚合性基的聚合物:[化1]式(1)(式(1)中,R10表示氢原子、金属阳离子、或四级铵阳离子;L10表示单键、或二价有机基;R11~R13分别独立表示氢原子、或经取代或未经取代的烷基;n表示1或2)。
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