[发明专利]通过氟/氯阴离子促进剥离所得的新的氧化物材料及合成有效
申请号: | 201180065601.5 | 申请日: | 2011-12-08 |
公开(公告)号: | CN103313789B | 公开(公告)日: | 2016-11-30 |
发明(设计)人: | A·卡特兹;荻野勋;S·I·佐恩斯 | 申请(专利权)人: | 加利福尼亚大学董事会;雪佛龙美国公司 |
主分类号: | B01J29/06 | 分类号: | B01J29/06 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 孙爱 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种通过氟/氯阴离子促进剥离制备的新的剥层层状沸石前体材料的合成。该方法包括:例如,在温和pH下于水溶液中使用氟阴离子和氯阴离子的组合来进行层状沸石前体的剥层。该方法还可包括使用在含有机溶剂的非水溶液中的氟阴离子和氯阴离子的组合。该方法可与酸化或声处理中的任一者或其两者结合使用。然后分离出所得剥层沸石前体。分离出的前体没有非晶态二氧化硅。UCB‑1产品为这种新的氧化物材料的实例并且在无需声处理下以超过90%的收率获得。 | ||
搜索关键词: | 通过 阴离子 促进 剥离 所得 氧化物 材料 合成 | ||
【主权项】:
通过层状沸石前体的至少部分剥层制备的氧化物材料,该氧化物材料没有非晶态二氧化硅相,该氧化物材料包含式XO2和Y2O3的氧化物,其中X为硅以及Y选自铝、硼、铁、铬、钛、镓、铈、镧、钐及其混合物的三价元素,且X与Y的原子比大于3。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于加利福尼亚大学董事会;雪佛龙美国公司,未经加利福尼亚大学董事会;雪佛龙美国公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180065601.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。