[发明专利]带有透明电极的基板及其制造方法以及触摸面板有效

专利信息
申请号: 201180069501.X 申请日: 2011-11-11
公开(公告)号: CN103443748A 公开(公告)日: 2013-12-11
发明(设计)人: 上田拓明;藤本贵久;近藤晃三;山本宪治 申请(专利权)人: 株式会社钟化
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041;B32B7/02;B32B9/00;G06F3/044
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 金世煜;赵曦
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的带有透明电极的基板(100)在透明膜基板(1)的至少一面依次具有:以SiOx为主要成分的第一电介质层(21)、以金属的氧化物为主要成分的第二电介质层(22)、以SiOy为主要成分的第三电介质层(23)、及透明电极层(4)。透明电极层(4)被图案化为电极层形成部(4a)与电极层非形成部(4b)。透明电极层(4)是以铟-锡复合氧化物为主要成分且膜厚为20nm~35nm的层。上述第一电介质层的折射率n1、上述第二电介质层的折射率n2、及上述第三电介质层的折射率n3满足n3<n1<n2的关系。第一电介质层(21)、第二电介质层(22)及第三电介质层(23)具有规定的膜厚。
搜索关键词: 带有 透明 电极 及其 制造 方法 以及 触摸 面板
【主权项】:
一种带有透明电极的基板,在透明膜基板的至少一面,依次具有第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、及被图案化的透明电极层;所述第一电介质层是以SiOx为主要成分且膜厚为1nm~25nm的硅氧化物层,其中x≥1.5;所述第二电介质层是以选自Nb、Ta、Ti、Zr、Zn、及Hf中的1种以上的金属的氧化物为主要成分且膜厚为5nm以上且小于10nm的金属氧化物层;所述第三电介质层是以SiOy为主要成分且膜厚为35nm~55nm的硅氧化物层,其中y>x;所述透明电极层是以铟‑锡复合氧化物为主要成分且膜厚为20nm~35nm的导电性金属氧化物层;所述第一电介质层的折射率n1、所述第二电介质层的折射率n2、及所述第三电介质层的折射率n3满足n3<n1<n2的关系;所述透明电极层的折射率n4为1.88以下、电阻率为5.0×10‑4Ω·cm以下。
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