[发明专利]靶及具备该靶的成膜装置无效
| 申请号： | 201210008545.8 | 申请日： | 2012-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN102586745A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 岩田宽;金子博 | 申请（专利权）人： | 住友重机械工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06;B22F3/10 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供即使为烧结体靶也能够降低运转成本的靶及具备该靶的成膜装置。通过夹具(27)固定于冷却板(22)的靶(25)为包含作为金属粉体的Zn粉体和熔点高于Zn的熔点的作为金属氧化物的ZnO粉体的混合物在由t0＜T＜t1表示的烧结温度T下烧结而成的低氧化物烧结体，其中，在上述公式中，t0为Zn的熔点，t1为ZnO的熔点或升华点。 | ||
| 搜索关键词： | 具备 装置 | ||
【主权项】：
一种靶，其通过夹具而被固定于保持部件上，其特征在于，该靶为包含金属粉体和熔点高于所述金属熔点的金属氧化物粉体的混合物在由下述公式表示的烧结温度T下烧结而成的低氧化物烧结体，t0＜T＜t1，其中，在上述公式中，t0为所述金属的熔点，t1为所述金属氧化物的熔点或升华点。
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