[发明专利]分布式金属布线有效
申请号: | 201210011810.8 | 申请日: | 2012-01-13 |
公开(公告)号: | CN102623436A | 公开(公告)日: | 2012-08-01 |
发明(设计)人: | 萧有呈;陈炎辉;陈蓉萱;周绍禹;田丽钧;廖宏仁 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/538 | 分类号: | H01L23/538;H01L21/768 |
代理公司: | 北京德恒律师事务所 11306 | 代理人: | 陆鑫;房岭梅 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种分布式金属布线方法和系统。一个实施例包括金属_0层,该金属_1层位于金属_0层上方。金属_1层包括间单独的多个并联线,其中,并联线中都具有不同的信号,并且分布在整个金属_1层上。这种布局缩短了电流经过的距离,从而减小了金属_0层中的寄生电阻。另外,金属_1层中的这种分布式布局使得金属_2层中的连接不必带有通孔的锤头连接。 | ||
搜索关键词: | 分布式 金属 布线 | ||
【主权项】:
一种半导体器件,包括:有源区域,位于基板中;第一金属层,与所述基板相接触,所述第一金属层包括至少一条第一导线;以及第二金属层,位于所述第一金属层上方,所述第二金属层具有第一并联线的分布式布局,其中,所述第一并联线中的至少两条单独的线与所述第一导线相接触。
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