[发明专利]具有增强的热辐射性能的薄膜覆晶型半导体封装无效

专利信息
申请号: 201210017507.9 申请日: 2012-01-19
公开(公告)号: CN102623419A 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 朴相弘;任俊成;洪性元;姜锡勋;崔荣玟;田珉浩 申请(专利权)人: 株式会社乐恩
主分类号: H01L23/367 分类号: H01L23/367;H01L23/552
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 顾红霞;段斌
地址: 韩国庆*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明公开了一种具有增强的热辐射性能的薄膜覆晶(COF)型半导体封装,该COF型半导体封装包括绝缘薄膜110、金属图案120和130、表面绝缘层140、半导体晶片200。金属图案由与半导体晶片电气连接的电路图案120以及与电路图案电气绝缘的绝缘图案130构成。绝缘薄膜110形成有热辐射孔150,以允许绝缘图案130的一部分暴露于绝缘薄膜110的底部表面。电路图案120的一部分在绝缘薄膜110上延伸,以构造成为与其它电路图案120相比具有宽表面积的扩展图案。由于从半导体产生的热通过其底部的绝缘图案130排放到基底100的后部内,所以绝缘图案130起到热辐射垫的作用。此外,电路图案120的上述部分构造为利用绝缘薄膜110上的额外空间占据宽区域的扩展图案125,并且扩展图案125通过热辐射孔150暴露于绝缘薄膜110的底部表面,从而通过晶片200的端子与扩展图案125相接触而增强热辐射效果。
搜索关键词: 具有 增强 热辐射 性能 薄膜 覆晶型 半导体 封装
【主权项】:
一种COF型半导体封装,包括:使用绝缘薄膜、形成在所述绝缘薄膜上的金属图案、和保护所述金属图案的表面绝缘层顺序层压而成的带互连基底;以及安装在所述带互连基底上的半导体晶片,其中所述金属图案包括与所述半导体晶片电气连接的电路图案,和与所述电路图案电气绝缘的绝缘图案。
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