[发明专利]电子装置及其积层结构及积层结构的制造方法有效
申请号: | 201210031521.4 | 申请日: | 2012-02-13 |
公开(公告)号: | CN103240922A | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | 赖思维;刘又菁;何婉钰 | 申请(专利权)人: | 群康科技(深圳)有限公司;奇美电子股份有限公司 |
主分类号: | B32B3/02 | 分类号: | B32B3/02;B32B9/04;B32B17/06;B32B15/04;G02B5/02 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 骆希聪 |
地址: | 518100 广东省深圳市宝*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明披露一种积层结构,用于一电子装置,积层结构包括一基板以及一散射层。基板具有一第一区域及一第二区域,第二区域设置于第一区域周围。散射层设置于第二区域,且散射层的厚度介于0.5~4微米,光学密度值大于4,散射层的颜色于Lab色彩空间定义中的L值大于70,a、b值则分别介于正负1之间。本发明还披露一种电子装置的积层结构制造方法。 | ||
搜索关键词: | 电子 装置 及其 结构 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种积层结构,用于一电子装置,该积层结构包括:一基板,具有一第一区域及一第二区域,该第二区域设置于该第一区域周围;以及一散射层,设置于该第二区域,且该散射层的厚度介于0.5~4微米,光学密度值大于4,该散射层的颜色于Lab色彩空间定义中的L值大于70,a、b值则分别介于正负1之间。
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