[发明专利]一种丙烯酸正性光刻胶及其制备方法无效
申请号: | 201210033673.8 | 申请日: | 2012-02-15 |
公开(公告)号: | CN102608866A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 张盼;杨光;孙越 | 申请(专利权)人: | 潍坊星泰克微电子材料有限公司 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;G03F7/027;G03F7/004 |
代理公司: | 潍坊正信专利事务所 37216 | 代理人: | 王纪辰 |
地址: | 261061 山东省潍*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种丙烯酸正性光刻胶及其制备方法,是在无尘、黄光条件下,按聚丙烯酸树脂5~30wt%,光致酸发生剂1~20wt%,含有多个羟基的酯5~40wt%,丙二醇甲醚醋酸酯30~60wt%的重量百分比,包括以下步骤制备:(1)向丙二醇甲醚醋酸酯中加入含有多个羟基的酯;(2)将步骤(1)的物质搅拌6~10个小时形成混合溶液;(3)向所述混合溶液中加入聚丙烯酸树脂、光致酸发生剂;(4)将(3)得到的组合物搅拌20~30小时,得到所述丙烯酸正性光刻胶。根据本发明配制的丙烯酸正性光刻胶具有衍射作用小、分辨率及灵敏度高、反差大以及透过性好、抗蚀刻能力强等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 丙烯酸 光刻 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种丙烯酸正性光刻胶,其特征在于:所述正性光刻胶由包括以下重量百分比的原料制备而成:聚丙烯酸树脂 5~30wt%, 光致酸发生剂 1~20wt%,含有多个羟基的酯 5~40wt%,丙二醇甲醚醋酸酯 30~60wt%。
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