[发明专利]一种集成电路可靠性测试电路与测试方法有效
申请号: | 201210035106.6 | 申请日: | 2012-02-16 |
公开(公告)号: | CN102590735A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | 彭嘉;黄大鸣;李名复 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | G01R31/3181 | 分类号: | G01R31/3181 |
代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人: | 陆飞;盛志范 |
地址: | 200433 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明属于集成电路测试技术领域,具体涉及一种集成电路可靠性测试电路和方法。测试电路的核心电路,是在RO的每两级反相器之间,在高电位Vdd和低电位Vss之间接入辅助的pMOSFETs和nMOSFETs,在输入输出连线上插入开关晶体管。通过控制辅助晶体管和开关晶体管的栅极电压,可在核心电路上实现RO的正常振荡,在RO的CMOSFETs上施加动态应力,并在RO的pMOSFETs或nMOSFETs上分别施加NBTI、PBTI以及HCI应力。本测试电路的功能包括:RO中的pMOSFETs在NBTI应力下的退化测量,nMOSFETs在PBTI应力下的退化测量,pMOSFETs在HCI应力下的退化测量,nMOSFET在HCI应力下的退化测量,并可与CMOSFETs在动态应力下的退化测量比较。 | ||
搜索关键词: | 一种 集成电路 可靠性 测试 电路 方法 | ||
【主权项】:
一种集成电路可靠性测试电路,其特征在于其核心电路包含一个环形振荡器RO(1),在RO的每两级反相器之间,接入一组辅助的pMOSFET(11)和nMOSFET(12),其中辅助pMOSFETs和nMOSFETs的源分别接RO的高电位Vdd(21)和低电位Vss=0V(22),每组pMOSFET和nMOSFET的漏连在一起,接到两级反相器之间的输入/输出连线上,所有辅助pMOSFETs的栅极连在一起,接到控制端Vp(31),所有辅助nMOSFETs的栅极连在一起,接到控制端Vn(32);另外,在RO的每两级反相器之间,在辅助的pMOSFET和nMOSFET之前,在输入/输出连线上插入一个开关晶体管(13),所有开关晶体管S的栅极连在一起,接到控制端VS(33);开关晶体管均为I/O器件,具有较厚的栅介质,工作电压比核心电路的工作电压高,以避免高电平传输时的阈值损失。
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