[发明专利]光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法无效
| 申请号： | 201210059273.4 | 申请日： | 2012-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN102681340A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | 铃木阳二;赤井泰之 | 申请（专利权）人： | 株式会社大赛璐 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;C08F2/48 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张永新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明提供一种光致抗蚀剂制造用溶剂组合物及其制造方法，在光致抗蚀剂的制造中，所述溶剂组合物对灵敏度高的肟酯类光聚合引发剂的溶解性良好，且不会损害电子材料用途的浆料组合物的特性。所述光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法的特征在于，混合包含选自下述式(A1)、(A2)、(A3)、(A4)及(A5)所示的化合物中的至少一种化合物的溶剂A和肟酯类光聚合引发剂来制成溶剂组合物(C)后，将溶剂组合物(C)及与所述溶剂A相溶的溶剂B混合得到光致抗蚀剂制造用组合物(D)。[化学式1] |
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| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 制造 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法，其特征在于，将包含选自下述式(A1)、(A2)、(A3)、(A4)及(A5)所示的化合物中的至少一种化合物的溶剂A和肟酯类光聚合引发剂混合来制成溶剂组合物(C)，然后将溶剂组合物(C)及与所述溶剂A相溶的溶剂B混合得到光致抗蚀剂制造用组合物(D)，![]()
上述式中，R1～R4、R1’、R2’相同或不同，分别为C1-2的烷基，R1和R3、或R2和R4任选相互键合而分别形成环；R5和R6相互键合而形成4～8元环，环可以分支而具有侧链；R5’和R6’相互键合而形成3～7元环，环可以分支而具有侧链；R7和R8相互键合而形成3～7元环，环可以分支而具有侧链。
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