[发明专利]半导体器件有效
申请号: | 201210059673.5 | 申请日: | 2012-03-08 |
公开(公告)号: | CN102683342A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 高桥幸雄 | 申请(专利权)人: | 瑞萨电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/04 | 分类号: | H01L27/04;H01L27/02 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 李兰;孙志湧 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种半导体器件,包括:衬底,嵌入到衬底中并具有多个开口的绝缘膜,形成在衬底中并位于这些开口中的多个虚拟扩散层,在电阻元件形成区域中形成在绝缘膜上使得在平面图中不与虚拟扩散层重叠并且在第一方向上延伸的多个电阻元件,和在电阻元件形成区域中形成在绝缘膜和虚拟扩散层上且在第一方向上延伸的多个虚拟电阻元件;其中虚拟电阻元件中的每一个,在平面图中与衬底水平的平面上,与在与第一方向垂直的第二方向上对齐的至少两个虚拟扩散层重叠。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 | ||
【主权项】:
一种半导体器件,包括:衬底;绝缘膜,所述绝缘膜嵌入到所述衬底中并且具有多个开口;多个虚拟扩散层,所述多个虚拟扩散层形成在所述衬底中并且位于所述开口中;多个电阻元件,所述多个电阻元件在电阻元件形成区域中形成在所述绝缘膜上方使得所述多个电阻元件在平面图中不与所述虚拟扩散层重叠并且在第一方向上延伸;和多个虚拟电阻元件,所述多个虚拟电阻元件在所述电阻元件形成区域中形成在所述绝缘膜和所述虚拟扩散层上方并且在所述第一方向上延伸;其中所述虚拟电阻元件中的每一个,在平面图中,在与所述衬底水平的平面中,与在垂直于所述第一方向的第二方向上对齐的至少两个所述虚拟扩散层重叠。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞萨电子株式会社,未经瑞萨电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210059673.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的