[发明专利]改进的集成电路接地屏蔽结构有效

专利信息
申请号: 201210067433.X 申请日: 2012-03-14
公开(公告)号: CN103151338A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 林佑霖;颜孝璁;陈和祥;周淳朴 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L23/58 分类号: H01L23/58
代理公司: 北京德恒律师事务所 11306 代理人: 陆鑫;房岭梅
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明内容提供了集成电路(IC)器件。IC器件包括包含电子元件的第一管芯。IC器件包括包含接地屏蔽结构的第二管芯。IC器件包括设置在第一管芯和第二管芯之间的层。该层将第一管芯和第二关系连接在一起。本发明内容还涉及微电子器件。微电子器件包括包含多个第一互连层的第一管芯。电感器线圈结构设置在第一互连层的子集中。微电子器件包括包含多个第二互连层的第二管芯。图案化接地屏蔽(PGS)结构设置在第二互连层的子集中。微电子器件包括设置在第一管芯和第二管芯之间的底部填充层。底部填充层包含一个或多个微凸块。本发明还提供了改进的集成电路接地屏蔽结构。
搜索关键词: 改进 集成电路 接地 屏蔽 结构
【主权项】:
一种装置,包括:第一管芯,包含电子元件;第二管芯,包含接地屏蔽结构;以及设置在所述第一管芯和所述第二管芯之间的层,其中,所述层将所述第一管芯和所述第二管芯连接在一起。
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